Vom 22. bis 24. Mai 2025 findet in Gößweinstein (Fränkische Schweiz) der 20. Lithography Simulation Workshop des Fraunhofer IISB statt. Die Veranstaltung bringt rund 50 Expert:innen aus Wissenschaft und Industrie zusammen, um aktuelle Entwicklungen in der rechnergestützten Lithographie und angrenzenden Bereichen wie Optik, Photochemie, Messtechnik und Künstlicher Intelligenz zu diskutieren. Spannende Vorträge geben Einblicke in neue Methoden, Anwendungen und aktuelle Fragestellungen. Für Promovierende gibt es zudem die Möglichkeit, ihre Forschung zu präsentieren und sich mit führenden Fachleuten darüber auszutauschen.
